고주파 유도 플라즈마의 계측 프로세스

Process for the Measurement of Radio-Frequency Induced Plasma

세라믹 재료 프로세스에 응용될 만한 고주파 유도 플라즈마의 계측프로세스에 대한 최근의 연구방법들을 소개하였다.

Recent researches trend of the measuring process for the radio-frequency induced plasma, which is appilicable to ceramic material processing, is introduced.

요약

ABSTRACT

1. 계측의 목적과 플라즈마 파라메타

2. 고주파 유도 플라즈마의 특징과 계측법의 분류

3. 계측 프로세스

4. 맺음말

참고문헌

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