비선형 카운트 패널 모형을 이용한 한국 기업의 특허와 연구개발비 간의 관계 분석

Regression Analysis of Patents and R&D Relationship of Korean Manufacturing Firms

본 연구에서는 상장된 한국 기업 중에서 1998년부터 2007년까지 10년 간 총 104개의 기업을 대상으로 작성된 균형패널자료를 이용해 특허와 R&D 간의 관계를 기본적인 포아송 모형과 음이항 모형 뿐만 아니라 분배시차 모형과 선형 되먹임 모형 등의 다양한 비선형 패널 모형을 통해 추정하고 Hausman 검정, Sargan 검정, 그리고 자기상관 검정법 등을 이용하여 특허와 R&D 간의 관계 분석에 가정 적합한 분석모형을 찾고자 한다. 이처럼 다양한 모형을 사용하여 분석한 결과 과거의 특허를 설명변수로 포함한 선형 되먹임 모형이 본 패널자료를 분석하는데 가장 적합한 모형으로 선정되었다. 선형 되먹임 모형의 추정 결과 현기뿐만 아니라 과거 2기까지의 R&D와 현기의 특허 간에 유의한 관계가 존재하는 것으로 나타난다. R&D의 특허에 대한 장기탄력성은 0.946이고, 이는 한국 기업의 R&D의 특허에 대한 투자대비 특허 출원효과가 상당히 높음을 의미한다.

This paper examines relationship between patents and R&D expenditures of Korean firms. For this purpose, a balanced panel data set of 104 Korean firms during 1998-2007 is constructed. Various nonlinear panel data models such as Poisson fixed and random effects models, negative binomial fixed and random effects models, distributed lag and dynamic feedback models are employed. Estimation results from these count panel data models show that only the dynamic feedback model is correctly specified and that not only current R&D expenditure but also 2 lags of R&D expenditure have some important effects on patenting of Korean firms. The long-run patent elasticity of R&D is 0.946, which implies that the productivity of R&D expenditure on patenting of Korean firms is relatively very high comparing to U.S. firms.