펨토초 레이저로 여기 된 플라즈마 충격파를 사용하여 실리콘 웨이퍼에서 나노 입자 제거

펨토초 (130fs) Ti : 사파이어 레이저 (ρρ = 790 nm)를 통해 여기 된 플라즈마 충격파를 사용하여 실리콘 웨이퍼상의 100 nm 크기 폴리스티렌 라텍스 (PSL) 입자의 세정 효과에 대한 실험이 보고되었다. 플라즈마 충격파가 형성 된 동안 X-Y-Z 스테이지를 사용하여 웨이퍼를 스캔함으로써, 플라즈마 충격파가 발생하기 전과 후에 나노 입자의 제거되는 것을 한 지역에서관찰하였다. 세정 효율은 플라즈마 형성 점과 표면 사이의 갭 거리에 크게 의존한다. 갭 거리가 150 ㎛ 일 때 나노 입자의 제거 효율은 표면 손상이 없이 95 %에 달했다.

1. 소개

2. 실험 과정

3. 결과 및 토의

4. 결론

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