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학술대회자료
IMP PVD 및 전기도금을 이용한 SIP용 Via Filling에 대한 연구
Via Filling for SIP by Using ionized Metal Plasma PVD and Electroplating
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 한국마이크로전자및패키징학회 학술대회자료집
- 2004년도 추계 기술심포지움 초록집
- 2004.11
- 20 - 20 (1 pages)