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학술대회자료
초고집적 구리 배선을 위한 새로운 펄스 플라즈마 원자층 증착법을 이용한 텅스텐 나이트라이드 확산 방지막
Tungsten Nitride Diffusion Barrier with using New Pulse Plasma Atomic Layer Deposition for Ultra Large Scale Integration Copper Interconnection
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 한국마이크로전자및패키징학회 학술대회자료집
- 2004년도 추계 기술심포지움 초록집
- 2004.11
- 27 - 27 (1 pages)