학술대회자료
ALD를 이용한 극박막 $HfO_2 /SiON$ 수식 이미지 stack structure의 특성 평가
Characterization of $HfO_2 /SiON$ 수식 이미지 stack structure for gate dielectrics
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 한국마이크로전자및패키징학회 학술대회자료집
- 2002년도 추계기술심포지움논문집
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2002.11115 - 121 (7 pages)
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