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학술대회자료
극자외선 노광공정용 Mo/Si 다층 박막 미러의 구조 분석
Structural Characterization of Mo-Si Multilayer Mirror for Extreme Ultraviolet Lithography
- 한국마이크로전자및패키징학회
- 한국마이크로전자및패키징학회 학술대회자료집
- 2001년도 추계 기술심포지움
- 2001.11
- 213 - 216 (4 pages)