아산화동과 황산간의 고속 화학반응에 의한 미세 Cu 입자의 합성과 삼본밀에 의한 분산성 개선

Synthesis of Cu Nanoparticles through a High-Speed Chemical Reaction between Cuprous Oxide and Sulfuric Acid and Enhancement of Dispersion by 3-Roll Milling

도전 페이스트의 필러로 사용되기 위한 미세 Cu 입자를 제조하기 위하여 아산화동 분말과 황산간의 고속 화학 반응을 이용한 증류수 기반의 습식 공정으로 Cu 입자의 합성을 실시하였다. 7℃에서 48%의 황산과 30 g의 Cu₂O를 사용한 조건에서 미반응 Cu₂O 입자들이 제거되면서 입자들간의 응집이 개선된 순수 Cu 나노입자들이 제조되었다. 이후 최적 첨가제의 선택을 통하여 입자들간의 응집이 가장 억제된 224 nm 크기의 Cu 입자들을 제조할 수 있었다. 이러한 미세 Cu 입자 시료에서는 응집된 형태의 조대 입자들이 다소 존재하였고 입자들간의 연결부도 일부 관찰되었으나, 삼본밀을 사용한 레진 포물레이션과의 혼합 후에는 응집된 형태의 조대 입자들이 파괴되고 입자들간의 연결부들이 탈착되어 입자들의 응집이 풀리는 거동을 관찰할 수 있었다.

With the aim of using a filler material in a conductive paste, fine Cu nanoparticles were synthesized through the high-speed chemical reaction between cuprous oxide (Cu₂O) powder and sulfuric acid in distilled water. Under external temperature of 7℃, sulfuric acid concentration of 48%, and Cu₂O amount of 30 g, the Cu₂O particles were eliminated and slightly aggregated Cu nanoparticles were synthesized. Futhermore, Cu nanoparticles of 224 nm, in which the aggregation between particles was obviousiy much suppressed, were synthesized with the choice of an additive. In the particle sample, occasionally there are coarse particles formed by the aggregation of fine nanoparticles and weak linkages between the nanoparticles. However, the coarse particles were destroyed and the linkages were broken after mixing with a resin formulation, indicating the behavior of untangling the aggregation between nanoparticles.