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마이크로전자 및 패키징학회지 제30권 제1호.jpg
KCI등재 학술저널

반도체 패키지 기판용 Ni-less 표면처리 기술 개발동향

Development Trend of Ni-less Surface Treatment Technology for Semiconductor Packaging Substrates

DOI : 10.6117/kmeps.2023.30.1.049
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최근 SIP (System in Packaging) 기술은 고주파(5G 이상) 통신 및 미세 피치 회로 특성을 만족해야 한다. 기존ENIG (Electroless Ni/Immersion Au Plating) 표면처리는 전송 손실이 증가하여 고주파에 적합하지 않으므로, 니켈 도금층이 없어도 패턴 및 패드의 신뢰성 수준을 만족시킬 수 있는 표면 처리 기술이 검토되고 있다. 본 논문에서는 고주파 통신 대응을 위한 Ni-less 표면처리기술과 소재에 따른 주파수 특성 등에 대한 연구 동향을 조사하였다.

Recently, System in Packaging(SIP) technology needs to meet high frequency (5G and more) communication technology and fine pitch surface treatment. The conventional Electroless Ni/Immersion Au plating(ENIG) is not suitable for high frequency range because of magnetic properties are increasing the transmission loss. Without nickel plating layer, the pattern and pad reliability level must be meet the condition. In this review paper, we investigated research trends on Ni-less surface treatment technology for high-frequency communication and frequency characteristics according to materials.

1. 서 론

2. 고주파 통신 대응 비(非) 자성 표면처리 응용기술

3. 전기적 특성 및 신뢰성 평가

4. 결 론

감사의 글

References

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