반도체 폐가스 분해(CF4, NF3)를 위한 Plasma system 설계 기술 개발

Plasma Design Technology for PFCs Decomposition

산업혁명 이후 급증하고 있는 온실가스의 대기 중 농도로 인한 지구온난화는 홍수, 가뭄, 사막화, 빙하의 감소 및 해수면의 상승 등의 기상이변과 그로 인한 막대한 사회적 손실을 초래하고 있다. 우리나라 역시 최근 급격한 산업발달과 더불어 온실가스의 배출이 증가하고 있으며, 국가기간산업인 반도체 산업에서 사용되는 CF4, C2F6, C3F8, C4F8, CHF3, SF6, NF3 등의 과불화합물(Perfluorocompound, PFC) 가스는 대기 중 체류기간이 수백에서 수만 년으로 상당히 길고, 지구 온난화 지구(Global Warming Potential, GWP)가 이산화탄소의 수천에서 수만 배에 이르기 때문에, 지구 환경을 보호하면서 지속 가능한 발전을 하기 위해서는 이에 대한 대책을 마련해야 한다. 지난 1999년 세계반도체협의회(World Semiconductor Council, WSC)에서 오는 2010년 까지 199 5년도(한국은 1997년) PFC 가스 배출량의 10% 이상을 자발적으로 감축하기로 합의하였고, 우리나라가 2002년에 비준한 교토 의정서는 선진국에 대하여 2012년까지 1990년도 온실가스 배출량 대비 평균 5.2% 감축하도록 강제적으로 규제하고 있다. 하지만 현재 반도체 산업의 성장추세와 함께 PFC 가스의 배출량도 증가하고 있기 때문에, 국제적 협약을 이행하기 위해서는 PFC 가스의 대량 분해 기술이 필요하다. 이에 본 연구에서는 반도체 가스(CF4)의 분해 효율이 우수한 Plasma 기술 중에서 핵심이 되는 Plasma torch 본 반응로 설계기술을 개발하는데 목적이 있다.