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학술저널

실험계획법을 이용한 저가형 N₂O 폐가스 분해촉매 제조 및 N₂O 제거 효율 평가

반도체 및 디스폴레이 제조공정 중 화학기 상중착(CVD),식각(etching), 세정(cleaning)에 사용되는 공정 가스로는 과불화합물(PFCs : perfluorocompounds)을 포함한 SiH4 , Si(O C2H5 ){TEOS: tetraethyl orthosilicate), SiF4 ,NH3, N20 , BC13, PH3, AsH2, TiCI4, CIF3, H2, F2, HF, BF3, HCI 등 다양한 조성의 유해가스들이 혼합되어 있다. 특히, 아산화질소(N₂O 는 반도체 공정에서 실리콘다이옥사이드 박막을 중착하는 매우 중요한 가스이다. N₂O가스의 사용량이 중가함에 따라 저에너지형 N₂O 분해 · 처리가 가능한 스크러버 기술개발이 필요한 실정이다. 본 연구에서 는N₂O 가스의 처리효율을 높이기 위해서는 저가형 N20분해 촉매를 제조하고 이룰 이용하여 촉매 사용 전보다 비교적 낮은 온도 하에서 N₂O를 저감시키고자 N20 제거 효율에 더 큰 영향을 미치는 인자에 대해 평가 하였다. 또한 각 인자간의 영향과 주효과도 둥올 알아보고 영향인자를 최적화하기 위해 실험계획법의 일부요인 배치법을 사용하여 3L급 촉매 제조 및 N₂O 제거 효율 실험을 수행하였다.

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